L’evoluzione dei chip a semiconduttore è direttamente collegata alla storia della miniaturizzazione dei circuiti. La chiave di questa miniaturizzazione è stata la riduzione delle lunghezze d’onda delle sorgenti luminose e i progressi nelle tecnologie di litografia che supportano la miniaturizzazione. All’inizio degli anni '90 sono stati realizzati modelli da 350 nm (nm: nanometro = un miliardesimo di metro) con i sistemi di litografia i-line. La miniaturizzazione è proseguita con i sistemi di litografia KrF/ArF e, negli ultimi anni, con i sistemi di litografia EUV.

I progressi della tecnologia litografica hanno contribuito in modo significativo alla miniaturizzazione e alla riduzione dei costi dei chip a semiconduttore. Tuttavia, è diventato sempre più difficile ottenere un’ulteriore miniaturizzazione e produrre chip semiconduttori complessi a basso costo solo attraverso l’estensione della tecnologia attuale.

Canon ha ottenuto una miniaturizzazione a basso consumo energetico e a costi inferiori con la litografia nanoimprint (NIL), una nuova tecnologia che rappresenta un’alternativa alla tecnologia litografica convenzionale. Consentendo la produzione a basso costo di modelli di 15 nm o più piccoli, la NIL è pronta a rivoluzionare l’industria dei semiconduttori.